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精选三维原子层沉积系统 ALD
三维原子层沉积系统ALD 原子层沉积（Atomic layer deposition
清砥量子科学仪器（北京）有限公司 400-6699-117 转 2004免费咨询 -
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
Forge Nano 开发的 PANDORA 台式原子层沉积系统巧妙地将粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术结合，是绝无仅有的高效研发工具。使用者可轻易地在粉末与平面样品之间切换，而不用担心影响研究效率。
复纳科学仪器（上海）有限公司 400-6699-117 转 6730免费咨询 -
PICOSUN原子层沉积设备ALD
PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。
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原子层沉积系统ALD
主要型号：- Angstrom Dep II: 热型原子层沉积系统 (T-ALD);- Angstrom Dep III: 等离子体增强原子层沉积系统 (PEALD);- Angstrom Dep I:
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统
P 系列是 Forge Nano 专为粉末 ALD 开发的研发级工具，可轻松实现 kg 的粉末包覆。使用流化床技术可保证粉末在反应器中的分散，有利于前驱体扩散。
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原子层沉积系统(ALD)
仪器简介：原子层沉积（ALD）简介： 原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），zei初称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也称为原子层化学气相沉积
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版
PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版
PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
NLD-3000原子层沉积系统：ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性
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